本设备是一款超高分辨率低真空场发射扫描电镜,
具有高真空和低真空(<200Pa)两种真空模式,可以
对有机材料、基板、多孔材料、塑料以及高聚物材料等
有电荷积累的样品或污染性样品进行超高分辨率表征。
性能及指标
1、分辨率:高真空模式:1.0nm @15kV,1.4nm @1kV
低真空模式:1.5nm @10kV(Helix探测器),
1.8nm @ 3kV(Helix探测器)
2、加速电压:500V~30kV连续可调;
3、电子束流范围:0.6pA~200nA连续可调;
4、样品台移动范围:X=Y=110mm;
5、电子束参数:射束着陆能量:500eV-30keV;
6、标样放大倍数:40倍~60万倍;
7、倾斜角度:-10°~70°
功能及用途
1、采集二次电子、背散射电子等信号对各种固体材料进行的微观形貌分析;
2、对容易污染、容易电荷积累的纳米材料和纳米器件进行观察和分析;
3、可实现固体样品的微观形貌观察和微区能谱成分分析、线分析及面分布分析;
4、配备的背散射探头可获得样品成分衬度图片;
5、配备的低真空探头可对不导电样品进行形貌及成分分析,而不需要进行喷金处理。